Institutional Repository, Institute of Psychology, Chinese Academy of Sciences
GERMANIUM EPITAXY ON SILICON BY IONIZED-CLUSTER BEAM | |
QIN, FG; WANG, XM; YANG, GR; LIN, LY | |
1984 | |
语种 | 英语 |
发表期刊 | CHINESE PHYSICS |
ISSN | 0273-429X |
卷号 | 4期号:4页码:976-980 |
期刊论文类型 | Article |
收录类别 | SCI |
WOS标题词 | Science & Technology ; Physical Sciences |
WOS研究方向 | Physics |
WOS类目 | Physics, Multidisciplinary |
WOS记录号 | WOS:A1984AFK8000038 |
引用统计 | |
文献类型 | 期刊论文 |
条目标识符 | http://ir.psych.ac.cn/handle/311026/25995 |
专题 | 中国科学院心理研究所回溯数据库(1956-2010) |
推荐引用方式 GB/T 7714 | QIN, FG,WANG, XM,YANG, GR,et al. GERMANIUM EPITAXY ON SILICON BY IONIZED-CLUSTER BEAM[J]. CHINESE PHYSICS,1984,4(4):976-980. |
APA | QIN, FG,WANG, XM,YANG, GR,&LIN, LY.(1984).GERMANIUM EPITAXY ON SILICON BY IONIZED-CLUSTER BEAM.CHINESE PHYSICS,4(4),976-980. |
MLA | QIN, FG,et al."GERMANIUM EPITAXY ON SILICON BY IONIZED-CLUSTER BEAM".CHINESE PHYSICS 4.4(1984):976-980. |
条目包含的文件 | 条目无相关文件。 |
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